特許
J-GLOBAL ID:200903020382518418

光触媒機能皮膜の形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中前 富士男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-061596
公開番号(公開出願番号):特開2009-131851
出願日: 2009年03月13日
公開日(公表日): 2009年06月18日
要約:
【課題】大気中かつ常温で簡単に施工でき、大面積で複雑形状の基材表面にも耐久性のある皮膜を形成可能で、しかも光触媒機能を十分に発揮可能な光触媒機能皮膜の形成方法を提供する。【解決手段】原料粉であるアナターゼ型の二酸化チタンの粒子11がルチル型に変態するのを制御しながら、低温度の溶射フレーム29を用いて、基材12上に二酸化チタンの粒子11の高速溶射を行い、前記二酸化チタンの粒子のアナターゼ型を維持しながら積層する光触媒機能皮膜の形成方法において、原料粉であるアナターゼ型の二酸化チタンの粒子を、水及び有機系溶液のいずれか一方又は双方中に混入し、この混合液を溶射フレーム29の投入前に霧化して、この霧状粒子を溶射する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
原料粉であるアナターゼ型の二酸化チタンの粒子がルチル型に変態するのを制御しながら、低温度の溶射フレームを用いて、基材上に前記二酸化チタンの粒子の高速溶射を行い、前記二酸化チタンの粒子のアナターゼ型を維持しながら積層する光触媒機能皮膜の形成方法において、 前記原料粉であるアナターゼ型の二酸化チタンの粒子を、水及び有機系溶液のいずれか一方又は双方中に混入し、この混合液を前記溶射フレームの投入前に霧化して、この霧状粒子を溶射することを特徴とする光触媒機能皮膜の形成方法。
IPC (5件):
B01J 37/02 ,  B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ,  C23C 4/10 ,  C23C 4/12
FI (5件):
B01J37/02 301Q ,  B01J35/02 J ,  B01J21/06 M ,  C23C4/10 ,  C23C4/12
Fターム (29件):
4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA14B ,  4G169BA48A ,  4G169CA10 ,  4G169CA17 ,  4G169EA08 ,  4G169EA11 ,  4G169EB15Y ,  4G169EB18Y ,  4G169FA02 ,  4G169FB02 ,  4G169HA04 ,  4G169HB02 ,  4G169HC10 ,  4G169HC15 ,  4G169HD13 ,  4G169HD18 ,  4G169HE03 ,  4G169HE06 ,  4K031AA01 ,  4K031AB02 ,  4K031AB11 ,  4K031CB42 ,  4K031DA01 ,  4K031EA01 ,  4K031EA07

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