特許
J-GLOBAL ID：200903020391861532
エアロゾルデポジッション成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-399973
公開番号（公開出願番号）：特開2005-163058
出願日： 2003年11月28日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】 流速を確保しつつ噴射口の詰まりを抑制した噴射ノズルを備え、良質な膜を安定して長時間形成可能なエアロゾルデポジッション成膜装置を提供する。【解決手段】 噴射ノズル14は、上流から順に、エアロゾル化した微粒子材料とキャリアガスからなるエアロゾルガス33とアシストガス34を導入するガス導入部41と、これらのガス33、34が合流するガス合流部42と、ガス合流部42と連通し下流に向かって次第に狭窄された流路と噴射口44を有する噴射部43を備えた構成とする。ガス合流部42においてエアロゾルガス33をアシストガス34により加圧することによりエアロゾルガス33の流速を増加させると共に、アシストガス34が噴射ノズルの内壁等42a、43aに沿って流れ微粒子材料が内壁に付着することを防止する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板を保持する保持台と、
エアロゾル化した微粒子材料を含むエアロゾルガスを生成するエアロゾルガス供給部と、
アシストガス供給部と、
前記エアロゾルガス供給部及びアシストガス供給部が連結され、前記エアロゾルガスを該基板に吹き付ける噴射ノズルと、
を備えたエアロゾルデポジッション成膜装置であって、
前記噴射ノズルは、
前記エアロゾルガスを導入する第1の導入路と、
アシストガスを導入する第2の導入路と、
前記第1の導入路から導入したエアロゾルガスと前記第2の導入路から導入したアシストガスとが合流するガス合流部と、
前記ガス合流部と連通し下流に向かって次第に流路が狭窄されると共に噴射口を有する噴射部とよりなることを特徴とするエアロゾルデポジッション成膜装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (19件)：
4K044AA01
, 4K044AA11
, 4K044AA12
, 4K044AA13
, 4K044AA16
, 4K044AB02
, 4K044AB10
, 4K044BA08
, 4K044BA10
, 4K044BA12
, 4K044BA13
, 4K044BA14
, 4K044BA15
, 4K044BB01
, 4K044BC05
, 4K044CA23
, 4K044CA29
, 4K044CA55
, 4K044CA71
