特許
J-GLOBAL ID：200903020398607852
ドライエツチング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-266053
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109665
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【構成】 ウェハー7を搭載し、高周波が印加される平行平板電極3,4の側壁部に高周波が印加される電極1,1を設け、その外側周囲に、ソレノイドコイル2を設ける。【効果】 エッチングを行う際に生じるプラズマの分布を均一にすることができ、これによって、エッチングレートの均一化及びエッチング形状の均一化が可能となる、
請求項（抜粋）：
一対の平行平板電極の一方が高周波電源に接続され、該平行平板電極の他方が接地されたドライエッチング装置において、側壁部に高周波電力源に接続された電極を設け、該電極の外周部にソレノイドコイルを設けたことを特徴とするドライエッチング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, C23F 4/00
, H05H 1/46
