直接描画方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-132258
公開番号（公開出願番号）：特開平9-318831
出願日： 1996年05月27日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】工程を簡略化して光学素子の形成が可能な直接描画方法を提供する。【解決手段】基板1上にクラッド層2を形成し、さらにその上にコア層3としてフォトポリマを使用し、これにレーザ光5を直接照射することにより、この部分の高分子材料の重合が進み、屈折率が上昇し、レーザ照射部分が高屈折率となって光導波路となり、これにオーバクラッド層6を形成して光導波路を形成する。

請求項（抜粋）：

光学部品の屈折パターンのデータに基づきレーザ光源と光学材料とを相対的に移動させ、かつレーザの出力を制御して前記レーザ光源からのレーザ光を前記光学材料に直接描画して光学部品を形成することを特徴とする、直接描画方法。

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