特許
J-GLOBAL ID：200903020409515408
投影光学系の検査方法、及び該方法を実施するための投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-032245
公開番号（公開出願番号）：特開平8-227845
出願日： 1995年02月21日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：
【要約】【目的】 レチクル上の基準パターンに描画誤差があっても投影光学系の倍率を正確に検出する。【構成】 ステップ101〜106,108,109においてレチクル上の基準マークが第1の基準位置及び第2の基準位置に来るようにレチクルステージを移動すると共に基準マークの投影光学系を介した像の結像位置をウエハステージ上の光透過部が横切るようにウエハステージを移動させ、第1の基準位置及び第2の基準位置におけるレチクルステージ及びウエハステージの位置をそれぞれのレーザ干渉計で測定する。ステップ107で算出されたレチクルステージの移動距離L2及びステップ110で算出されたウエハステージの移動距離L1からステップ111において中央制御系16で投影光学系の倍率(L1/L2)を算出する。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンの像を所定平面に投影するための投影光学系の検査方法において、前記マスクに形成された所定パターンを第1の位置に移動する第1工程と、前記投影光学系の光軸に対して垂直に前記第1の位置とは異なる第2の位置に前記所定パターンを移動する第2工程と、前記第1の位置と前記第2の位置との関係を検出する第3工程と、前記第1の位置にある前記所定パターンの像の前記投影光学系による投影位置と前記第2の位置にある前記所定パターンの像の前記投影光学系による投影位置との関係を検出する第4工程と、前記第3工程で検出された位置関係と前記第4工程で検出された位置関係とに基づいて前記投影光学系の結像特性を求める第5工程と、を含むことを特徴とする投影光学系の検査方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 516 Z
, G03F 9/00 H
