特許

J-GLOBAL ID：200903020417368171

基板カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法

発明者： 西 正博
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-066901
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261606
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】 半導体ウェーハ等の基板を収納するカセットを、パーティクルを残さないように洗浄する。【解決手段】 鉛直軸の周りを回転する回転フレーム11と、回転フレーム11に水平軸周りの回転自在に装着されたカセット保持具14と、カセット保持具14を回転させる駆動手段15と、カセット保持具14が保持する基板カセット1に向けて洗浄液と乾燥気体とを順次噴射するノズル17とを有する基板カセット洗浄装置とする。この装置を使用して、基板カセット1をカセット保持具14に固定してノズル17の周りを回転させながらノズル17から洗浄液と乾燥気体とを順次吹き付ける。その際、洗浄液吹き付け時と乾燥気体吹き付け時それぞれの中途で、基板カセット1を上下反転させる。

請求項（抜粋）：

鉛直軸の周りを回転する回転フレームと、該回転フレームに水平軸周りの回転若しくは回動自在に装着されたカセット保持具と、該カセット保持具を回転若しくは回動させる駆動手段と、該カセット保持具が保持する基板カセットに向けて洗浄液と乾燥気体とを順次噴射するノズルと、を有することを特徴とする基板カセット洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/02 ,  B08B 9/28

FI (3件)：

H01L 21/304 341 C ,  B08B 3/02 B ,  B08B 9/28