特許
J-GLOBAL ID：200903020422486549
断層撮影装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山田 正紀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-059380
公開番号（公開出願番号）：特開平8-252256
出願日： 1995年03月17日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：
【要約】【目的】本発明は、被検体内部の断層を光学的に撮影する断層撮影装置に関し、撮影時間の短縮を図る。【構成】光放射部11の複数の光源LA,...,LO,...,LBと、光検出部17の複数の光センサDA,...,LO,...,DBを、ビームスプリッタ12に関し鏡面対称な位置に離散的に配置する。
請求項（抜粋）：
所定の光放射面上に離散配置された、所定の可干渉距離を有する光波を放射する複数の光源を備えた光放射部と、前記複数の光源から放射された各光波それぞれを物体光と参照光とに二分するビームスプリッタと、前記物体光による、前記光放射面上の複数の光源それぞれの像を、所定の結像面上に形成するとともに、該結像面で反射した物体光を所定の光検出面上に導いて、前記結像面上の、前記複数の光源それぞれの像を、該光検出面上の、前記ビームスプリッタに関して、前記光放射面上の複数の光源それぞれの配置位置と鏡面対称な関係にある各位置に写像する物体光結像光学系と、前記参照光を、前記ビームスプリッタに向けて反射する参照ミラーと、前記参照光を前記参照ミラーに導くとともに、該参照ミラーで反射した参照光を前記光検出面に導いて、該参照光による、前記光放射面上の複数の光源それぞれの像を、前記結像面で反射した物体光による前記複数の光源それぞれの像に重畳させて形成する参照光結像光学系と、前記光検出面上の前記各位置に離散配置された複数の光センサを有する光検出部とを備えたことを特徴とする断層撮影装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
審査官引用 (3件)
-
特表平6-511312
-
特開昭62-091837
-
特公平6-035946
前のページに戻る
