特許
J-GLOBAL ID：200903020427428130
マイクロ波プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-249589
公開番号（公開出願番号）：特開平6-104210
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】本発明は、高密度プラズマを生成し、エッチング等の処理を均一にすることができ、さらにプラズマ処理速度を増加させることができる、マイクロ波プラズマ処理装置を提供することにある。【構成】マイクロ波プラズマ処理装置において、処理室10内に誘電体15を設けた。あるいは、処理室10内を分割することを可能とするように、処理室10内に誘電体15を設けた。【効果】試料17にエッチング等の処理を行う際、試料近傍のラジカル密度はほぼ均一かつ高密度であるため、均一かつ高速でエッチング等の処理を行うことが可能となる。
請求項（抜粋）：
マイクロ波を利用したプラズマ発生装置と、減圧可能な処理室と、該処理室にガスを供給するガス供給装置と、真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、生成したプラズマを利用して試料を処理する処理室内に、誘電体を配置したことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, C23C 16/50
, C23F 4/00
