特許

J-GLOBAL ID：200903020436007996

脱水素方法およびその装置

発明者： 佐藤 利雄 ,  伊藤 育夫 ,  武田 享一 ,  室井 高城
出願人/特許権者： 住金化工株式会社 ,  エヌ・イーケムキャット株式会社
代理人 (1件)： 押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-179484
公開番号（公開出願番号）：特開平6-100472
出願日： 1992年06月11日
公開日（公表日）： 1994年04月12日
要約：

【要約】【目的】 脱水素原料中の、あるいは脱水素反応過程で生成する脱水素反応阻害物質を反応系内で除去でき、しかも反応生成物を精製分離できる脱水素方法およびその装置を提供する。【構成】 蒸発部25、蒸留段22、24と触媒床23を含む反応塔21および蒸気の還流冷却部30からなる脱水素反応装置に原料を装入して蒸発させ、蒸発した蒸気を蒸発段と触媒床を含む反応塔21を通過せしめたのち、還流冷却部30で冷却液化し、その一部または全量を前記反応塔21に還流する。【効果】 従来法では困難であった縮合多環化合物の脱水素芳香族化を、触媒の劣化少なく従来予想もし得ない高収率で実施できる。

請求項（抜粋）：

蒸発部、触媒床および蒸気の還流冷却部からなる脱水素反応装置に脱水素用原料を送入して蒸発させ、蒸発した蒸気を触媒床を通過せしめたのち、還流冷却部で冷却液化し、その一部または全量を前記触媒床に還流することを特徴とする脱水素方法。

IPC (7件)：

C07C 13/54 ,  B01D 3/00 ,  B01J 8/02 ,  C07C 5/367 ,  C07C 5/387 ,  C07C 15/24 ,  C07B 61/00 300