特許

J-GLOBAL ID：200903020440910293

基板洗浄方法及び基板洗浄装置

発明者： 稲垣 靖史
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-341093
公開番号（公開出願番号）：特開2002-143791
出願日： 2000年11月08日
公開日（公表日）： 2002年05月21日
要約：

【要約】【課題】 均一安定な基板洗浄を可能とし、同時に省資源化、廃棄物低減化を可能とする。【解決手段】 弗化アンモニウムを含み、弗化アンモニウム(重量%)/弗化水素(重量%)>50である水溶液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、洗浄液の使用時間の経過とともに当該洗浄液にアンモニア成分を追加補充する。弗化アンモニウム、あるいは弗化アンモニウムと弗化水素を含む水溶液を洗浄液とする場合、これらの比率(弗化アンモニウム/弗化水素)によって変化の様子が異なり、弗化アンモニウム(重量%)/弗化水素(重量%)>50の場合には、弗化アンモニウムと弗化水素の比率が経過時間と共に次第に変化する。したがって、アンモニア成分を補充し、過剰なHFをNH4 Fに変換することで、HF濃度が一定に保たれる。

請求項（抜粋）：

弗化アンモニウムを含み、弗化アンモニウム(重量%)/弗化水素(重量%)>50である水溶液を洗浄液として基板の洗浄を行う際に、上記洗浄液の使用時間の経過とともに当該洗浄液にアンモニア成分を追加補充することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (7件)：

B08B 3/08 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/308

FI (7件)：

B08B 3/08 Z ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/10 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/308 G

Fターム (28件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201BB04 ,  3B201BB05 ,  3B201BB82 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201CB01 ,  3B201CC21 ,  3B201CD22 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003EA05 ,  4H003ED02 ,  4H003FA03 ,  4H003FA21 ,  4H003FA23 ,  5F043AA02 ,  5F043AA29 ,  5F043BB27 ,  5F043DD30 ,  5F043EE23 ,  5F043EE24 ,  5F043EE27