特許
J-GLOBAL ID：200903020464700834
冷却捕集装置及び半導体製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-056826
公開番号（公開出願番号）：特開平9-225230
出願日： 1996年02月20日
公開日（公表日）： 1997年09月02日
要約：
【要約】【課題】保守期間の長い、而も保守作業が容易に行える冷却捕集装置を提供し、半導体製造装置の稼働率を向上させようとするものである。【解決手段】遮蔽板32が互い違いに設けられ、前記遮蔽板が中心に向かって下り傾斜している気水分離器28を排気ガス流路に設けた冷却捕集装置4であり、排気ガスは前記遮蔽板に衝突して流速を減じ、更に冷却されることで気化温度の低いガスの液化が促進され、前記遮蔽板上に結露し、結露した液滴は漸次粗大化し、前記遮蔽板の傾斜により流下する。
請求項（抜粋）：
遮蔽板が互い違いに設けられた気水分離器を排気ガス流路に設けたことを特徴とする冷却捕集装置。
IPC (4件)：
B01D 45/08
, H01L 21/205
, H01L 21/22 511
, H01L 21/31
B01D 45/08 Z
, H01L 21/205
, H01L 21/22 511 S
, H01L 21/31 A
