特許
J-GLOBAL ID:200903020473929682

膜形成方法、及び膜形成方法に用いられる液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宇高 克己
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-334241
公開番号(公開出願番号):特開平11-001778
出願日: 1997年12月04日
公開日(公表日): 1999年01月06日
要約:
【要約】【課題】 成膜を簡単、かつ、効率良く行うことが出来る技術を提供することである。【解決手段】 基体上に膜を設ける膜形成方法であって、前記基体表面に金属錯体の液体もしくは溶液の層を設ける工程と、前記基体及び/又は液の層を加熱する工程とを具備し、金属錯体の分解により基体上に膜が設けられる膜形成方法。
請求項(抜粋):
基体上に膜を設ける膜形成方法であって、前記基体表面に金属錯体の液体もしくは溶液の層を設ける工程と、前記基体及び/又は液の層を加熱する工程とを具備してなり、金属錯体の分解により基体上に膜が設けられることを特徴とする膜形成方法。
IPC (2件):
C23C 18/08 ,  C23C 18/14
FI (2件):
C23C 18/08 ,  C23C 18/14
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平1-313329
  • 特開昭49-195504
  • 特開昭60-096764

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