特許
J-GLOBAL ID:200903020480307751

導波路型半導体受光素子とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 章夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-097896
公開番号(公開出願番号):特開平9-283786
出願日: 1996年04月19日
公開日(公表日): 1997年10月31日
要約:
【要約】【課題】 成長接合と単純メサ構造の導波路型半導体受光素子では、低暗電流特性、信頼性が劣化される。これを改善しようとしたメサ・プレーナ構造では作製歩留りが低くなる。【解決手段】 p導電型のInP基板1上に、p導電型半導体層2、n導電型光吸収層3、n導電型キャップ層4を積層し、これをストライプ状に形成してメサストライプを形成する。また、光吸収層3とキャップ層4の側壁をn型に反転した反転領域5を形成する。成長接合と単純メサ構造を採用しながらも、低暗電流特性、信頼性が改善され、かつ素子作製歩留りが改善される。
請求項(抜粋):
第一導電型あるいは半絶縁性半導体基板上に、少なくとも、第一導電型半導体層、第二導電型あるいは高純度あるいは高抵抗半導体光吸収層、第二導電型半導体キャップ層を積層状態に有し、かつ少なくとも前記光吸収層とキャップ層でメサストライプが構成され、かつこのメサストライプにおける前記キャップ層及び光吸収層の側壁領域には第一導電型に反転された反転領域を有することを特徴とする導波路型半導体受光素子。
引用特許:
審査官引用 (1件)

前のページに戻る