特許
J-GLOBAL ID：200903020480668070
露光用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-316126
公開番号（公開出願番号）：特開平5-150445
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：
【要約】【目的】 使用環境気圧等の変化に影響されず、かつ、異物等の付着によるパタン転写異常を生じることの無いマスクを得る。【構成】 所望のマスクパタンを転写するためのパタン4を有する基板1と、所定の厚さを有する透明薄膜2と透明薄膜2を基板1のパタンから所定の間隔をおいて設けるための保持部材3とを有する露光用マスクにおいて、保持部材3に1個以上の開口部5を設けた。【効果】 異物等の付着によるパタン転写異常を生じることの無いマスクが得られ、固体素子製造工程の歩留まりを上げ生産性を向上することができる。又、マスクの寿命を延ばすことができる。
請求項（抜粋）：
転写用のマスクパタンが形成された基板と、上記基板のマスクパタンから所定の間隔をおいて透明薄膜を設けるための壁状保持部材とを有する露光用マスクにおいて、上記保持部材に1個以上の開口部を設けて構成されたことを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
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