特許

J-GLOBAL ID：200903020501777524

オキシラン化合物およびジオール化合物の製造方法。

発明者： 志賀 紀仁 ,  渡邊 久幸
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-166229
公開番号（公開出願番号）：特開2004-000868
出願日： 2002年06月06日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】オキシラン化合物及び/又はジオール化合物の工業的に有用な製造方法を提供する。【解決手段】式(1)【化1】(式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立に、水素原子、フェニル基、C1-10アルキル基等を意味するか、或いは、何れか2つが一緒になって環を形成する。)で表されるオレフィン類を、有機溶媒中、タングステン酸、リン酸、式(2)【化3】(式中、R8はフッ素原子で置換されたC1-15アルキル基を意味し、rは1又は2を表し、R5、R6及びR7はそれぞれ独立して、C1-10アルキル基等を意味し、Xはハロゲン原子を表す。)で表される含フッ素4級アンモニウム塩及び過酸化水素で処理することを特徴とする式(3)及び/又は式(4)【化4】(式中、R1、R2、R3及びR4は上記と同じ。)で表されるオキシラン化合物及び/又はジオール化合物の製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

タングステン酸、リン酸、過酸化水素及び式(2)

IPC (5件)：

B01J31/34 ,  C07C29/48 ,  C07C35/22 ,  C07D301/12 ,  C07D303/06

FI (5件)：

B01J31/34 Z ,  C07C29/48 ,  C07C35/22 ,  C07D301/12 ,  C07D303/06

Fターム (44件)：

4C048AA06 ,  4C048BB01 ,  4C048BC01 ,  4C048CC01 ,  4C048XX02 ,  4C048XX05 ,  4G069AA02 ,  4G069BB14A ,  4G069BB14B ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BD01A ,  4G069BD01B ,  4G069BD02A ,  4G069BD02B ,  4G069BE17A ,  4G069BE17B ,  4G069BE34A ,  4G069BE34B ,  4G069CB07 ,  4G069CB08 ,  4G069CB09 ,  4G069CB73 ,  4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006BA14 ,  4H006BA28 ,  4H006BA30 ,  4H006BA35 ,  4H006BA51 ,  4H006BA81 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BB20 ,  4H006BB21 ,  4H006BB25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC34 ,  4H006BE32 ,  4H006FC22 ,  4H006FC24 ,  4H006FE12 ,  4H039CA63 ,  4H039CC40