特許

J-GLOBAL ID：200903020507129230

位相シフト・マスク矯正方法および位相シフト・マスク・システム

発明者： ラルス・ダブリュー・リーブマン ,  バーン・ジェン・リン ,  マーク・オー・ネイサー
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-002974
公開番号（公開出願番号）：特開平10-207040
出願日： 1998年01月09日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】 フォトリソグラフィで使用する位相シフト・マスク中の欠陥を矯正するための方法および装置を提供すること。【解決手段】 本発明は、位相シフタを含む第2の修復マスクを作成することを含んでいる。第1のマスク上の欠陥を決定し、欠陥を取り囲む領域を画定し、その領域を不透明にする。この欠陥のある領域内にある設計回路を第2のマスク上にコピーする。第2の露光中、この設計回路を半導体ウェハ上に置く。

請求項（抜粋）：

イメージ強化マスクにおける複数の欠陥を矯正する方法であって、a)前記複数の欠陥の位置を決定するステップと、b)複数の修復領域を画定するステップと、c)前記イメージ強化マスク上で前記複数の修復領域を不透明にするステップと、d)イメージ強化修復マスク上に前記複数の修復領域と相補形のパターンを画定するステップとを含む方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 T ,  H01L 21/30 502 W ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528