特許
J-GLOBAL ID：200903020520029440
フォトリソグラフィ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-008016
公開番号（公開出願番号）：特開2000-216086
出願日： 2000年01月17日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：
【要約】【課題】 走査型フォトリソグラフィシステムにおいて走査方向に沿った線幅のばらつきを制御または低減させること。【解決手段】 走査型フォトリソグラフィ装置を、電磁波を供給する光源と、光源からの電磁波を受光するように配置されたレチクルステージと、レチクルステージ上に置かれたレチクルからの電磁波を受光するように配置された投影光学系と、投影光学系からの電磁波を受光するように配置された基板ステージと、レチクルステージおよび基板ステージに結合されたステージ制御部と、線量制御部とを有するように構成する。ステージ制御部はレチクルステージおよび基板ステージの動作を制御して、感光性レジスト被覆基板に走査型の露光を供給し、かつ走査方向を有し、線量制御部は露光線量を修正して、電磁波の所定の露光線量が走査方向に沿った位置の関数として感光性基板により受光されるように構成する。
請求項（抜粋）：
補正露光線量を有する走査型フォトリソグラフィ装置において、電磁放射を供給する光源と、前記光源からの電磁放射を受光するように配置されたレチクルステージと、前記レチクルステージ上に置かれたレチクルからの電磁放射を受光するように配置された投影光学系と、前記投影光学系からの電磁放射を受光するように配置された基板ステージと、前記レチクルステージおよび基板ステージに結合されたステージ制御部と、線量制御部とを有し、前記ステージ制御部は前記レチクルステージおよび基板ステージの動作を制御して、感光性レジスト被覆基板を走査方向に従って走査露光し、前記線量制御部は露光線量を修正して、電磁放射の所定の露光線量が走査方向に沿った位置の関数として感光性基板により受光されるようにし、これにより走査方向の線幅のばらつきが低減される、ことを特徴とする走査型フォトリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 518
, G03F 7/22 H
, H01L 21/30 516 D
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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