特許
J-GLOBAL ID：200903020520797277
CVD成膜装置及びCVD成膜方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
柳瀬 睦肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-152872
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335947
出願日： 2000年05月24日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：
【要約】【課題】 容器内に原料ガスを導入する際に短時間で原料ガスの流量を一定に制御できるCVD成膜装置及びCVD成膜方法を提供する。【解決手段】 本発明に係るCVD成膜装置は、ペットボトル7の内側にDLC膜を成膜する装置である。この装置は、ペットボトルの外側を囲むように配置された外部電極3と、この外部電極内に配置され、ペットボトルの内部に配置される内部電極9と、ペットボトルの内側にDLC膜を成膜する時に、マスフローコントローラー19で一定流量に制御された炭化水素ガスをペットボトルの内部に導入する導入経路と、DLC膜を成膜する時以外に、マスフローコントローラー19で一定流量に制御された炭化水素ガスを外部電極3の外側に流して待機させておく待機経路と、外部電極内の真空排気を行うフロー用真空ポンプ21と、を具備する。
請求項（抜粋）：
容器の内側に薄膜を成膜するCVD成膜装置であって、容器の外側を囲むように配置された外部電極と、この外部電極内に配置され、容器の内部に配置される内部電極と、容器の内側に薄膜を成膜する時に、マスフローコントローラーで一定流量に制御された原料ガスを容器の内部に導入する導入経路と、上記薄膜を成膜する時以外に、上記マスフローコントローラーで一定流量に制御された原料ガスを外部電極の外側に流して待機させておく待機経路と、上記外部電極内の真空排気を行うフロー用真空排気手段と、上記外部電極に接続されたマッチングボックスと、このマッチングボックスに接続された高周波電源と、を具備することを特徴とするCVD成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/509
, B65D 23/02 Z
3E062AA09
, 3E062AC02
, 3E062JA01
, 3E062JA07
, 3E062JB24
, 4K030AA09
, 4K030BA28
, 4K030CA07
, 4K030CA15
, 4K030EA06
, 4K030FA03
, 4K030HA15
, 4K030JA05
, 4K030KA41
