特許
J-GLOBAL ID：200903020525780976
フォトマスクの欠陥修正方法及び修正装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-252016
公開番号（公開出願番号）：特開平7-104459
出願日： 1993年10月08日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【目的】 フォトマスクの欠陥修正に関し, 黒欠陥の修正の際のスプラッシュによる障害を除去する。【構成】 1)遮光膜 2が被着された面を下側にしてフォトマスクを保持し, その上側からフォトマスクの透明基板 1を通してレーザ光 4を照射することにより, 該遮光膜のパターニングの際に発生した該遮光膜のエッチ残渣(黒欠陥)3 を飛散させて除去する,2)前記フォトマスクをレベリング機能を有するステージに保持し,該フォトマスクの下側より排気機構により吸引する。
請求項（抜粋）：
遮光膜(2) が被着された面を下側にしてフォトマスクを保持し, その上側からフォトマスクの透明基板(1) を通してレーザ光(4)を照射することにより, 該遮光膜のパターニングの際に発生した該遮光膜のエッチング残渣(黒欠陥)(3)を飛散させて除去することを特徴とするフォトマスクの欠陥修正方法。
IPC (2件)：
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