特許

J-GLOBAL ID：200903020525899159

マイクロリソグラフィ投影照明機器の除染法

発明者： ゲルハルト,ミヒャエル ,  ゼートバウアー,マークス ,  ディックマン,ニルス ,  シュリーヴァ,マルティン ,  ズィーラー,クリスティン ,  ライズィンガー,ゲルト
出願人/特許権者： カール・ツアイス・シュティフテュング・ハンデルンド・アルス・カール・ツアイス
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-559483
公開番号（公開出願番号）：特表2002-520839
出願日： 1999年06月17日
公開日（公表日）： 2002年07月09日
要約：

【要約】マイクロリソグラフィ投影照明機器の光学素子(2)またはその一部分、特に光学素子の表面の除染法では、紫外線光と流体が使用される。除染のために露光中断中第2紫外線の光源(5)が光学素子(2)の少なくとも一部分に向けられる。

請求項（抜粋）：

紫外光と流体を用いた、マイクロリソグラフィ投影照明機器の光学素子(2)またはその一部分、特に光学素子の表面の除染方法であって、照明中断中に第2紫外線の光源(5)が少なくとも光学素子(2)の一部に向けられることを特徴とする方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B08B 7/00 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

B08B 7/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (11件)：

3B116AA46 ,  3B116AB51 ,  3B116BB88 ,  3B116BC01 ,  5F046AA17 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CB03 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27