特許
J-GLOBAL ID：200903020527280725
ホトレジスト膜の除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-232423
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066119
出願日： 1993年08月25日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】安価な前処理を採用したホトレジスト膜の効率的な除去方法を提供する。【構成】基板表面のホトレジスト膜を除去するに先立ち予め凍結処理する。【効果】凍結処理後のホトレジスト膜の除去方法として、プラズマアッシングを用いた場合は、その処理効率を高め、または、処理条件の緩和化を図ることが出来る利点が得られ、超音波洗浄方法、メガソニック洗浄方法、凍結粒子によるブラスティング方法などを用いた場合は、高価な設備を必要としない経済的に有利なホトレジスト膜の除去方法を実現することが出来る。
請求項（抜粋）：
基板表面のホトレジスト膜を除去するに先立ち予め凍結処理することを特徴とするホトレジスト膜の除去方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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