特許
J-GLOBAL ID:200903020543850493
防汚膜形成用組成物及び光学部品
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 隆久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-064089
公開番号(公開出願番号):特開平9-255919
出願日: 1996年03月21日
公開日(公表日): 1997年09月30日
要約:
【要約】【課題】耐汚染性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚膜を形成することができる防汚膜形成用組成物、及びこのような防汚膜を有する反射防止フィルター等の光学部品を提供する。【解決手段】下記一般式(1)で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有する防汚膜形成用組成物で防汚膜を形成する。Rf {COR1 -R2 -Si(OR3 )3 }j ...(1)但し、式中、Rf はパーフルオロポリエーテル基を示し、R1 は2価の原子又は基を示し、R2 はアルキレン基を示し、R3 はアルキル基を示し、jは1又は2である。
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有する防汚膜形成用組成物。 Rf {COR1 -R2 -Si(OR3 )3 }j ...(1)(但し、式中、Rf はパーフルオロポリエーテル基を示し、R1 は2価の原子又は基を示し、R2 はアルキレン基を示し、R3 はアルキル基を示し、jは1又は2である。)
IPC (5件):
C09D183/04 PMV
, C03C 17/30
, C07F 7/18
, C09D 5/16 PQM
, G02B 1/10
FI (7件):
C09D183/04 PMV
, C03C 17/30 A
, C07F 7/18 Q
, C07F 7/18 N
, C07F 7/18 K
, C09D 5/16 PQM
, G02B 1/10 Z
引用特許:
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