特許

J-GLOBAL ID：200903020547594220

電子線殺菌装置

発明者： 岸上 寿夫 ,  山川 隆
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-015292
公開番号（公開出願番号）：特開2000-214300
出願日： 1999年01月25日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、電子線照射を利用した殺菌装置において、放射線遮蔽トンネル内に設けた搬送部分の構造の単純化と、コンベヤやガイドローラ等に付着した菌の除去や衛生管理が容易な電子線殺菌装置を提供することを目的とする。【解決手段】 電子線殺菌装置において、略円形通路を有する放射線遮蔽トンネルと、該曲線状通路に沿って沿設させた被照射体の搬送コンベアと、前記放射線遮蔽トンネルの通路途中に設けた電子線照射室とを具え、前記電子線照射室内の電子線照射により発生した放射線を前記遮蔽トンネル内の曲線状通路内で反射変向させながら散乱減衰させ、該遮蔽トンネルの出入口部からの漏洩放射線を許容レベル以下に減衰させるとともに、前記遮蔽トンネルの少なくとも一部に前記通路が開放される開閉扉を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

食品容器、飲料容器、医療容器等の中空立体形状の被照射物に、電子線を照射して殺菌等の所期の目的を達成する電子線殺菌装置において、その通路途中に実質的に凹状曲路を有さない膨出形曲線状通路を有する放射線遮蔽トンネルと、該曲線状通路に沿って沿設させた被照射体の搬送コンベヤと、前記放射線遮蔽トンネルの通路途中に設けた電子線照射室とを具え、前記電子線照射室内の電子線照射により発生した放射線を前記遮蔽トンネル内の曲線状通路で反射変向させながら散乱減衰させ、該遮蔽トンネルの出入口部からの漏洩放射線を許容レベル以下に減衰させることを特徴とする電子線殺菌装置。

IPC (3件)：

G21K 5/04 ,  A61L 2/08 ,  B65B 55/08

FI (3件)：

G21K 5/04 E ,  A61L 2/08 ,  B65B 55/08 B

Fターム (10件)：

4C058AA12 ,  4C058AA25 ,  4C058BB06 ,  4C058CC04 ,  4C058DD16 ,  4C058EE01 ,  4C058EE29 ,  4C058KK03 ,  4C058KK33 ,  4C058KK42