特許
J-GLOBAL ID：200903020552656470
重合体及びその製造方法
発明者：
,
,
,
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-174850
公開番号（公開出願番号）：特開2002-069184
出願日： 2001年06月08日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：
【要約】【課題】生分解性や安全性に優れ、幅広い用途で各種要求特性を満たす重合体及びその製造方法、さらに生分解性を有し生体に対して刺激性等の少ない表面作用型高分子薬剤等を提供する。【解決手段】一般式(1a)及び/又は(1b)の繰返し単位と、一般式(2a)及び/又は(2b)の繰返し単位とを有する重合体。ペンダント基導入反応を含む重合体の製造方法。該重合体を含有する表面作用型高分子薬剤。【化1】【化2】[式中、R1はカルボキシル基等の酸性基を有するペンダント基;R2はアルキル基等;X1とX2はNH,N(R’)等;n1とn2は1又は2]
請求項（抜粋）：
分子内に、下記一般式(1a)で表される繰り返し単位、及び/又は、下記一般式(1b)で表される繰り返し単位と、【化1】[式(1a)(1b)中、R1は、カルボキシル基、チオカルボン酸基、ジチオカルボン酸基、チオ炭酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、硫酸基、亜硫酸基、スルフィン酸基、アミド硫酸基、フルファミン酸基及びホウ酸基、並びにそれらの塩から成る群より選ばれる少なくとも1つの酸性基を有するペンダント基であり、X1は、NH、N(R')(R'はアルキル基、アリール基又はアラルキル基)、O又はSであり、n1は1又は2である。]分子内に、下記一般式(2a)で表される繰り返し単位、及び/又は、下記一般式(2b)で表される繰り返し単位と、【化2】[式(2a)(2b)中、R2はアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、X2はNH、N(R'')(R''はアルキル基、アリール基又はアラルキル基)又はSであり、n2は1又は2である。]を有する重合体。
IPC (2件)：
C08G 73/10 ZBP
, C08G 69/48
C08G 73/10 ZBP
, C08G 69/48
4J001DA01
, 4J001DB01
, 4J001DD07
, 4J001DD13
, 4J001EA36
, 4J001EE14C
, 4J001EE16C
, 4J001EE20C
, 4J001EE27C
, 4J001EE43C
, 4J001EE53C
, 4J001FA03
, 4J001FB01
, 4J001FC01
, 4J043PA02
, 4J043PC166
, 4J043QB06
, 4J043RA05
, 4J043SA05
, 4J043SA62
, 4J043SB01
, 4J043UA761
, 4J043YB32
