特許

J-GLOBAL ID：200903020554988837

Sn-Zn合金めっき上に高耐食性皮膜を形成する方法

発明者： 桜井 仁志 ,  井上 学 ,  野中 裕子 ,  岸 弘
出願人/特許権者： ディップソール株式会社
代理人 (1件)： 中村 稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-337666
公開番号（公開出願番号）：特開平7-188943
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】【目的】 Sn-Zn合金めっきに直接クロメート皮膜を均一に強固に形成させることができる方法を提供すること。【構成】 基体上に5〜95重量%のZnを含有するSn-Zn合金めっきを生成せしめた後、クロム酸イオンあるいは重クロム酸イオン、及び硫酸イオンまたは塩素イオンまたは臭素イオンを含有するクロメート処理液を用いて、Sn-Zn合金めっきに耐食性クロメート処理を施すことを特徴とするSn-Zn合金めっき上に高耐食性皮膜を形成する方法。

請求項（抜粋）：

基体上に5〜95重量%のZnを含有するSn-Zn合金めっきを生成せしめた後、クロム酸イオンあるいは重クロム酸イオン、及び硫酸イオンまたは塩素イオンまたは臭素イオンを含有するクロメート処理液を用いて、Sn-Zn合金めっきに耐食性クロメート処理を施すことを特徴とするSn-Zn合金めっき上に高耐食性皮膜を形成する方法。

IPC (3件)：

C23C 28/00 ,  C23C 22/24 ,  C25D 3/60