特許
J-GLOBAL ID:200903020576943870
スルホニウム化合物の分子膜又は高分子微粒子膜を持つ複合体及び該複合体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
宮本 晴視
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-133080
公開番号(公開出願番号):特開2001-315254
出願日: 2000年05月02日
公開日(公表日): 2001年11月13日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 水を媒体として用いてAu、Ag、Ptのような貴金属やCoのような遷移金属との相互作用による自己組織化により前記金属表面に薄膜を形成する系を確立すること【構成】 金属基板又は金属膜を表面に形成した基板、及び前記基板上に下記の式Aで表される両親媒性のスルホニウム基を有する低分子化合物又は式Aで表される両親媒性のスルホニウム基を有するモノマーを含む重合体の水溶液、又は式Aで表される両親媒性のスルホニウム基を有するモノマーを含む高分子の微粒子の水系媒体懸濁液から前記金属とスルホニウム基との相互作用の自己組織化による固定化により形成された分子膜又は微粒子膜からなる複合体。(式A中、Rは、低分子化合物の場合は炭素数12以下の親油性を付与する基、高分子化合物の場合は付加重合性不飽和結合を有する基、Zは前記親油性基と、また前記付加重合性不飽和結合を有する基とR3とを結合する連結基、R3はフェニレン又はアルキレン、R1及びR2は低級アルキル基、X-はアルキル硫酸イオン、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、硫酸水素イオン、p-トルエンスルホン酸イオンのいずれかを表わす。)
請求項(抜粋):
金属基板又は金属膜を表面に形成した基板、及び前記基板上に下記の式Aで表される両親媒性のスルホニウム基を有する低分子化合物又は式Aで表される両親媒性のスルホニウム基を有するモノマーを含む重合体の水溶液、又は式Aで表される両親媒性のスルホニウム基を有するモノマーを含む高分子の微粒子の水系媒体懸濁液から前記金属とスルホニウム基との相互作用の自己組織化による固定化により形成された分子膜又は微粒子膜からなる複合体。(式A中、Rは、低分子化合物の場合は炭素数12以下の親油性を付与する基、高分子化合物の場合は付加重合性不飽和結合を有する基、Zは前記親油性基と、また前記付加重合性不飽和結合を有する基とR3とを結合する連結基、R3はフェニレン又はアルキレン、R1及びR2は低級アルキル基、X-はアルキル硫酸イオン、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、硫酸水素イオン、p-トルエンスルホン酸イオンのいずれかを表わす。)
IPC (5件):
B32B 15/04
, B32B 15/08
, B32B 15/16
, C23C 26/00
, C23C 28/00
FI (8件):
B32B 15/04 Z
, B32B 15/08 Z
, B32B 15/08 K
, B32B 15/16
, C23C 26/00 A
, C23C 26/00 B
, C23C 28/00 A
, C23C 28/00 Z
Fターム (34件):
4F100AB01A
, 4F100AB01B
, 4F100AB24A
, 4F100AB24B
, 4F100AB25
, 4F100AG00
, 4F100AH04C
, 4F100AK12
, 4F100AK24C
, 4F100AK25
, 4F100AK80C
, 4F100AL01
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100DE01C
, 4F100EH66
, 4F100EJ01C
, 4F100GB00
, 4F100JL01
, 4F100JL11
, 4F100JM02B
, 4F100JM03C
, 4K044AA12
, 4K044AB02
, 4K044BA06
, 4K044BA08
, 4K044BA21
, 4K044BB03
, 4K044BB11
, 4K044BC00
, 4K044CA13
, 4K044CA53
引用特許:
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