プラズマ発生装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-107693
公開番号（公開出願番号）：特開平8-306500
出願日： 1995年05月01日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：

【要約】【構成】処理物Pを収容する真空容器1の壁面に電極取付用の開口部2が形成され、この開口部2には、誘電材料電極6および高周波導入電極7とからなる高周波電極8が、開口部2の外側にパッキン5を介して開口部2を覆うように、この開口部2に沿って平行に配設されている。また、高周波電極8にはマッチングユニット12を介して高周波電源11が接続されてエネルギーが投入される。【効果】開口部2に対向するように処理物Pを配したり、あるいはこの開口部2を横切るように処理物Pを送り出したりすることにより、処理物Pと高周波電極8との距離を等しくして、これに伴いプラズマの強度も均一とすることができ、処理物Pの全体に亙って均一なプラズマ処理を施すことが可能となる。

請求項（抜粋）：

処理物を収容する真空容器の壁面に電極取付用の開口部が形成され、この開口部には、高周波電極が該開口部に沿って平行に配設されていることを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/3065

FI (4件)：

H05H 1/46 B , C23C 16/50 , C23F 4/00 A , H01L 21/302 C

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-281730
マイクロ波放電反応装置及び電極装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平2-400904 出願人：佐藤徳芳, 飯塚哲, 日電アネルバ株式会社
特開昭63-125671

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