特許
J-GLOBAL ID：200903020584642846

高圧発生装置

発明者：
土井 浩嗣

土井 浩嗣 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 亮一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-204949
公開番号（公開出願番号）：特開2003-021988
出願日： 2001年07月05日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：
【要約】【目的】 小型化と低コスト化及び低消費電力化を図ることができる高圧発生装置を提供すること。【構成】 静電式画像形成装置に用いられる高圧発生装置を、所定の画像形成プロセスに用いられる第1のバイアスを発生するバイアス発生手段と、該バイアス発生手段からのバイアスを入力として所定の画像形成プロセスに用いられる第2のバイアスに電圧値を調整して出力するバイアス調整手段を含んで構成する。
請求項（抜粋）：
静電式画像形成装置に用いられる高圧発生装置であって、所定の画像形成プロセスに用いられる第1のバイアスを発生するバイアス発生手段と、該バイアス発生手段からのバイアスを入力として所定の画像形成プロセスに用いられる第2のバイアスに電圧値を調整して出力するバイアス調整手段とを含んで構成されることを特徴とする高圧発生装置。
IPC (4件)：
G03G 21/00 398 ,  G03G 15/00 550 ,  G03G 15/02 102 ,  G03G 15/06 101
FI (4件)：
G03G 21/00 398 ,  G03G 15/00 550 ,  G03G 15/02 102 ,  G03G 15/06 101
Fターム (38件)：
2H027DA01 ,  2H027EA01 ,  2H027EA05 ,  2H027EJ17 ,  2H027ZA01 ,  2H071DA34 ,  2H073BA02 ,  2H073BA03 ,  2H073BA04 ,  2H073BA13 ,  2H073BA41 ,  2H073BA45 ,  2H200FA00 ,  2H200GA23 ,  2H200GA57 ,  2H200GA69 ,  2H200GA70 ,  2H200HA13 ,  2H200HA29 ,  2H200HA30 ,  2H200HB48 ,  2H200JA02 ,  2H200JA28 ,  2H200JA29 ,  2H200JA30 ,  2H200KA07 ,  2H200KA28 ,  2H200KA29 ,  2H200KA30 ,  2H200NA02 ,  2H200NA03 ,  2H200NA06 ,  2H200NA13 ,  2H200NA15 ,  2H200NA23 ,  2H200NA24 ,  2H200PA03 ,  2H200PB02
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 画像形成装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-340211   出願人：株式会社リコー
  • 高圧電源装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-138356   出願人：キヤノン株式会社

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