特許

J-GLOBAL ID：200903020587594010

光学素子の製造方法

発明者： 大森 正樹 ,  桑原 鉄夫 ,  中居 靖行 ,  宮崎 直 ,  山本 潔
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-252185
公開番号（公開出願番号）：特開平8-119639
出願日： 1994年10月18日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：

【要約】【目的】 高温におけるガラスと型の融着及び型の表面粗さの低下に伴う成形品の曇不良を改良した光学素子の製造方法を提供する。【構成】 軟化状態にあるガラス素材を成形用型を用いてプレスして該型の成形面に対応した光学機能面を該ガラス素材に形成する光学素子の製造方法において、該ガラス素材の深さ50nmまでの表面層のアルカリ成分量を1〜20mol%にした後プレスすることによる光学素子の製造方法。

請求項（抜粋）：

軟化状態にあるガラス素材を成形用型を用いてプレスして該型の成形面に対応した光学機能面を該ガラス素材に形成する光学素子の製造方法において、該ガラス素材の深さ50nmまでの表面層のアルカリ成分量を1〜20mol%にした後プレスすることを特徴とする光学素子の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 成形用ガラス素材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-065519   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平4-321525
  
• 特開平1-239030
  
• 特公昭61-032263