特許

J-GLOBAL ID：200903020587791508

アリールメタル化合物の製造方法および親電子試薬とのそれらの反応のための方法

発明者： フォルカー・ライフェンラート ,  ハンス-クリスチャン・スティアスニー
出願人/特許権者： メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング
代理人 (1件)： 葛和 清司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-361025
公開番号（公開出願番号）：特開2000-229981
出願日： 1999年12月20日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 工業的規模で安全に行うことができる、有用な液晶材料であるオルト-ハロアリールメタル化合物の製造方法を見い出すこと。【解決手段】 ハロゲン原子又はトリフルオロメトキシ基に対するオルト位に水素原子を有する芳香族化合物の、適当な塩基を使用する脱プロトン化による、又は適当なメタル化剤を使用するハロ芳香族化合物のハロゲン-メタル交換によるアリールメタル化合物の製造及び親電子試薬とのそれらの反応のための方法であって、アリールメタル化合物が連続流通反応装置中で製造されることを特徴とする、前記方法。

請求項（抜粋）：

ハロゲン原子又はトリフルオロメトキシ基に対するオルト位に水素原子を有する芳香族化合物の、適当な塩基を使用する脱プロトン化による、又は適当なメタル化剤を使用するハロ芳香族化合物のハロゲン-メタル交換によるアリールメタル化合物の製造及び親電子試薬とのそれらの反応のための方法であって、アリールメタル化合物が連続流通反応装置中で製造されることを特徴とする、前記方法。

IPC (7件)：

C07F 1/02 ,  C07B 37/04 ,  C07C 35/50 ,  C07C 43/23 ,  C07D319/06 ,  C07F 5/04 ,  C07F 7/12

FI (7件)：

C07F 1/02 ,  C07B 37/04 Z ,  C07C 35/50 ,  C07C 43/23 E ,  C07D319/06 ,  C07F 5/04 C ,  C07F 7/12 D

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-217930
  
• 特開昭54-163531
  
• スルフィド化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-193513   出願人：昭和電工株式会社