特許

J-GLOBAL ID：200903020589163660

走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いるデバイス製造方法

発明者： 佐藤 光弥
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-279575
公開番号（公開出願番号）：特開平7-135158
出願日： 1993年11月09日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【目的】 走査露光時の露光時間を短くすること。【構成】 露光光と投影光学系15とに対してレチクル10とウエハ16を走査することにより前記レチクルのパターンを前記投影光学系を介して前記ウエハ上に投影露光する装置において、前記レチクルとウエハを走査する時の加速時及び/または減速時に前記レチクルのパターンを介して前記ウエハを露光するよう設定してあり、前記加速時及び/または減速時の前記ウエハに対する露光量がほぼ一定になるよう前記走査の速度に応じて前記露光光の強度を変える強度変調手段5,6を有する。

請求項（抜粋）：

露光光で原板と基板を走査することにより前記原板のパターンを介して前記基板を露光する装置において、前記走査の加速時及び/または減速時に前記原板のパターンを介して前記基板を露光する手段を有することを特徴とする走査型露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 502 G

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 走査型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-218132   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭63-033818
  
• 特開昭62-193125
  
• 特開昭63-213927
  

審査官引用 (1件)

• 走査型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-218132   出願人：株式会社ニコン