特許

J-GLOBAL ID：200903020590281626

側方放射式にビームを形成する構成素子および当該構成素子用のレンズ

発明者： マリオ ヴァニンガー
出願人/特許権者： オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (5件)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-530576
公開番号（公開出願番号）：特表2008-512706
出願日： 2005年07月22日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：

側方放射式にビームを形成する構成素子および当該構成素子用のレンズ 側方放射式にビームを形成する構成素子であって、放射源と、当該放射源の後方に配置されている光学装置を有しており、前記放射源の光軸は、構成素子の取付面に対して垂直に延在しており、前記光学装置は断面でV字状に形成されている反射性表面と、外側から見て凸状に形成されている屈折性表面を有しており、当該屈折性表面は、前記反射性表面と、前記放射源の方を向いている底面との間に配置されており、当該底面は、該底面を通って前記放射源の電磁ビームが光学装置に入るように配置および構成されており、前記反射性表面は、前記入力されたビームの中央の第1の部分が該反射性表面から屈折性表面へ偏向されるように、配置および構成されており、前記屈折性表面は、前記反射性表面から到来するビームも、前記放射源から直接到来するビームも、当該屈折性表面によって、ビーム収束されつつ、放射源の光軸に対して側方で取り出されるように配置および構成されている。

請求項（抜粋）：

側方放射式にビームを形成する構成素子であって、 放射源と、当該放射源の後方に配置されている光学装置を有しており、 前記放射源の光軸は、構成素子の取付面に対して垂直に延在しており、 ・前記光学装置は断面でV字状に形成されている反射性表面と、外側から見て凸状に形成されている屈折性表面を有しており、当該屈折性表面は、前記反射性表面と、前記放射源の方を向いている底面との間に配置されており、 ・当該底面は、該底面を通って前記放射源の電磁ビームが光学装置に入るように配置および構成されており、 ・前記反射性表面は、前記入力されたビームの中央の第1の部分が該反射性表面から屈折性表面へ偏向されるように、配置および構成されており、 ・前記屈折性表面は、前記反射性表面から到来するビームも、前記放射源から直接到来するビームも、当該屈折性表面によって、ビーム収束されつつ、放射源の光軸に対して側方で取り出されるように配置および構成されている、 ことを特徴とする、側方放射式にビームを形成する構成素子。

IPC (2件)：

G02B 3/04 ,  H01L 33/00

FI (2件)：

G02B3/04 ,  H01L33/00 M

Fターム (4件)：

5F041AA05 ,  5F041AA06 ,  5F041EE11 ,  5F041FF11

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 発光ダイオード
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-355826   出願人：豊田合成株式会社
• 特開昭61-127186
  

審査官引用 (2件)

• 発光ダイオード
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-355826   出願人：豊田合成株式会社
• 特開昭61-127186