特許
J-GLOBAL ID:200903020595764927

昇華型熱転写用受像体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-273433
公開番号(公開出願番号):特開平5-077567
出願日: 1991年09月24日
公開日(公表日): 1993年03月30日
要約:
【要約】【目的】 染着層中の残留溶剤の経時的減少を抑え、経時的な印字品質の変動を防止する。【構成】 基材A上の染着層Bを形成する溶剤が、メチルエチルケトンと、メチルエチルケトンより蒸発速度の遅い溶剤からなり、その含有量はメチルエチルケトンの方を大きくする。
請求項(抜粋):
基材上に昇華性染料を染着する樹脂を含有する受容層を設けた昇華型熱転写用受像体の製造方法において、受容層を形成する溶剤が、メチルエチルケトンと、メチルエチルケトンより蒸発速度の小さい溶剤からなり、その含有量はメチルエチルケトンの方が大きいことを特徴とする昇華型熱転写記録媒体の製造方法。

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