特許

J-GLOBAL ID：200903020614382488

露光方法とこれを用いたデバイスの製造方法、および露光装置とこれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 青木 貴史
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-237550
公開番号（公開出願番号）：特開2002-050568
出願日： 2000年08月04日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：

【要約】【課題】 露光方法とこれを用いたデバイスの製造方法、および露光装置とこれを用いたデバイスの製造装置において、不純物質やオゾンの生成を効果的に減少させ、防汚効果、露光光透過率およびランニングコストを向上させること。【解決手段】 露光エネルギー発生源1と基板Wとの間に形成される少なくとも一つの空間にガスを供給すると共に、前記空間に供給するガスの流量を、前記空間に入射する露光エネルギーILの入射条件に応じて調整するので、前記入射条件に応じてオゾンの生成や不純物質の付着を十分に防ぐことができるガス流量に適切にコントロールされ、露光エネルギーの入射条件に応じて効果的に汚染を防止できるとともに、ガスの供給量の無駄が低減される。

請求項（抜粋）：

露光エネルギー発生源からの露光エネルギーをマスクに導き、該マスクのパターンを基板に転写する露光方法であって、前記露光エネルギー発生源と前記基板との間に形成される少なくとも一つの空間にガスを供給すると共に、前記空間内の前記ガスの流れを変化させることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 502

FI (3件)：

G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (20件)：

2H097AA03 ,  2H097BA02 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  5F046AA22 ,  5F046BA02 ,  5F046BA03 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB24 ,  5F046DA01 ,  5F046DA27 ,  5F046DB01 ,  5F046DB12 ,  5F046DB14 ,  5F046DC02