特許
J-GLOBAL ID:200903020616837318
レーザ加工装置
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-257169
公開番号(公開出願番号):特開2001-269789
出願日: 2000年08月28日
公開日(公表日): 2001年10月02日
要約:
【要約】【課題】 微小な箇所を、効率良く加工可能なレーザ加工装置を提供する。【解決手段】 被加工物(37)にレーザ光(11)を照射して加工を行なうレーザ加工装置において、不安定共振器(45,46)を備えた注入同期式の紫外線レーザ装置(1)と、被加工物(37)の加工領域(98)の配置に1対1で対応させて配置した集光器(28)を複数個有する集光器アレイ(29)と、前記レーザ光(11)の強度分布を任意の分布に変換する強度分布変換光学部品(25)とを備えたことを特徴とするレーザ加工装置。
請求項(抜粋):
被加工物(37)にレーザ光(11)を照射して加工を行なうレーザ加工装置において、不安定共振器(45,46)を備えた紫外線レーザ装置(1)と、レーザ光(11)を被加工物(37)に照射する集光器(28)を複数個有する集光器アレイ(29)とを備えたことを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (4件):
B23K 26/06
, H01L 21/268
, H01S 3/00
, B23K101:42
FI (7件):
B23K 26/06 A
, B23K 26/06 C
, B23K 26/06 E
, B23K 26/06 Z
, H01L 21/268 J
, H01S 3/00 B
, B23K101:42
Fターム (12件):
4E068CA05
, 4E068CA11
, 4E068CD04
, 4E068CD05
, 4E068CD14
, 4E068DA11
, 5F072AA06
, 5F072JJ02
, 5F072KK09
, 5F072KK30
, 5F072PP03
, 5F072YY06
前のページに戻る