特許
J-GLOBAL ID:200903020625400178
X線露光装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高田 守 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-067939
公開番号(公開出願番号):特開平8-264422
出願日: 1995年03月27日
公開日(公表日): 1996年10月11日
要約:
【要約】【目的】 複雑な構造を採用することなく、しかもX線強度を減衰させることなく、X線取り出し窓の耐熱性を向上させ、均一な高強度X線を利用できる耐久性の高いX線露光装置を提供することにある。【構成】 X線源であるSRリングから放射される高強度X線を高真空ビームラインを介してその端部にあるX線取り出し窓から大気圧側にあるX線マスクを有するウエハ上に均一に照射してレジストを露光する高強度均一X線露光装置であって、上記高真空ビームラインの端部に位置するX線取り出し窓の支持部材を銅等の熱伝導の大きい材料で製造するとともに、該支持部材に冷却手段を設け、該支持部材を介してX線取り出し窓を冷却するようにしてなるX線露光装置にある。
請求項(抜粋):
X線源であるSRリングから放射される高強度X線を高真空ビームラインを介してその端部にあるX線取り出し窓から大気圧側にあるX線マスクを有するウエハ上に均一に照射してレジストを露光する高強度均一X線露光装置であって、上記高真空ビームラインの端部に位置するX線取り出し窓の支持部材を銅等の熱伝導の大きい材料で製造するとともに、該支持部材に冷却手段を設け、該支持部材を介してX線取り出し窓を冷却するようにしてなることを特徴とするX線露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
FI (3件):
H01L 21/30 531 A
, G03F 7/20 503
, H01L 21/30 531 S
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平4-019998
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特開平4-293226
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特開平4-320319
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