特許

J-GLOBAL ID：200903020634386269

ハイドロタルク石型クレーの簡略化した製法

発明者： アラカナンダ・バッタチャーヤ ,  マーク・ピー・カミンスキー
出願人/特許権者： アモコ・コーポレイシヨン
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-218026
公開番号（公開出願番号）：特開平5-246711
出願日： 1992年08月17日
公開日（公表日）： 1993年09月24日
要約：

【要約】【目的】 支柱となる陰イオンとして、pH依存性で実質的にカーボネートを含まない無機陰イオンを含有する、ハイドロタルク石型クレーの簡略化されたかつ直接的な製法を提供する。【構成】 支柱となる陰イオンとして、pH依存性で実質的にカーボネートを含まない無機陰イオンを含有するハイドロタルク石型クレー;並びに、いくつかの2価及び3価金属イオン及びpH依存性で実質的にカーボネートを含まない硼素含有陰イオン及び遷移元素メタレートから上記のハイドロタルク石型クレーを製造する簡略化されたかつ直接的な製法を特徴とする。

請求項（抜粋）：

ハイドロタルク石型クレーの製法であって、Mg2+、Zn2+、Cu2+、Ni2+、Co2+、Mn2+及びFe2+よりなる群から選ばれる1種以上の2価の金属イオン並びにAl3+、Fe3+、Co3+、Mn3+及びCr3+よりなる群から選ばれる1種以上の3価の金属イオンを含有する溶液を、実質的にカーボネートを含まない溶液に加え、該溶液のpHは約6-14の間で選択的に選び、内位添加剤を含有させて混合物を形成し、そしてその後、この混合物から式:M2+2xM3+2(OH)4x+4An-2/n・ZH2O(式中、xは1.5-5であり、nは1-8であり、AはpH依存性の実質的にカーボネートを含まない無機陰イオンよりなる群から選ばれる1種以上の陰イオンであり、そしてZは0-約4である)の物質を回収することよりなる、約7.7オングストロームより大きいX線回折d(001)値を有する、上記のハイドロタルク石型クレーの製法。

IPC (6件)：

C01B 33/20 ,  B01J 21/16 ,  C01F 7/00 ,  C01G 9/00 ,  C01G 31/00 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特公昭47-032198
  
• 特開平2-104536
  
• 特許第4843168号