特許

J-GLOBAL ID：200903020636438258

シリカガラス焼結体の製造方法

発明者： 下原 潤治 ,  長野 将典 ,  中島 真澄 ,  栗田 澄彦 ,  森永 健次
出願人/特許権者： 株式会社香蘭社 ,  株式会社フェローテックジーエスキュー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-368392
公開番号（公開出願番号）：特開平11-189427
出願日： 1997年12月25日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：

【要約】【目的】 超高純度シリカ原料を用いなくても、透明シリカガラス焼結体を製造する方法を提供する。【構成】 シリカガラス粉末を成形し、該成形体を酸処理後、該酸処理した成形体を該ガラス粉末の焼結開始温度以下の温度で脱気処理した後、該脱気した成形体を焼成することを特徴とするシリカガラス焼結体の製造方法。

請求項（抜粋）：

シリカガラス粉末を成形する工程と、該成形体を酸処理する工程と、該酸処理した成形体を該ガラス粉末の焼結開始温度以下の温度で脱気処理する工程と、該脱気した成形体を焼結する工程を備えていることを特徴とするシリカガラス焼結体の製造方法。

IPC (4件)：

C03B 20/00 ,  C03B 19/06 ,  C03C 23/00 ,  C04B 35/14

FI (6件)：

C03B 20/00 A ,  C03B 20/00 E ,  C03B 19/06 C ,  C03B 19/06 B ,  C03C 23/00 B ,  C04B 35/14