特許
J-GLOBAL ID：200903020640401822
パターン位置測定方法および測定装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-239243
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082420
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：
【要約】【目的】縮小型X線リソグラフィにおいて、縮小光学系を用いた、精度の高いマスクとウェーハの位置合せ方法が課題であった。【構成】マスクの位置合せマークパターンより反射したX線を縮小,結像させて、ウェーハ上の位置合せマークパターンに照射し、これにより発生する2次電子、あるいは光電子を検出して、位置を合せる。【効果】位置合せ精度が飛躍的に向上させ、縮小型X線リソグラフィの性能向上が画られ、その実用化を促進する。
請求項（抜粋）：
光をパターンに照射することにより、パターンから発生する光電子あるいは2次電子を検出してパターンの座標を測定することを特徴とするパターン位置測定方法および測定装置。
IPC (2件)：
前のページに戻る
