特許
J-GLOBAL ID：200903020656454748
ホトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-084293
公開番号（公開出願番号）：特開平6-301192
出願日： 1993年04月12日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：
【要約】【目的】 半透明位相シフトマスクを用いたパタン転写では、透明主パタンの周りにリング状に第2の光強度ピークが表われる。また、半透明大面積パタン内に不要な光強度ピークが現われる。この不要な光強度ピークを消失させ、主パタン以外の不要なパタンの転写を防止する。【構成】 主パタン7周辺又は内側に透明領域と同位相の透明補助パタン8を配置する。【効果】 主パタンの不要な光強度ピークを小さくすることができ、不要なパタンの転写を防止できた。
請求項（抜粋）：
少なくとも露光光に対して半透明な領域と、透明な領域を含み、上記半透明な領域と、透明な領域を通過する光の位相差がおよそ180°となるようにしたホトマスクにおいて、投影する主パタンに、透過光の位相差が透明領域と同じで、かつ透明な補助パタンを配置したことを特徴とするホトマスク。
IPC (2件)：
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