特許

J-GLOBAL ID：200903020660549915

感光性物質、およびそれを含有する耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物と感光性基材、ならびにパターン形成方法

発明者： 表 利彦 ,  林 俊一 ,  藤井 弘文
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-109286
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281717
出願日： 1992年04月01日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：

【要約】【目的】 感光性を有する樹脂成分がいかなる構造であっても、充分に対応でき、しかも感度や解像度に優れた耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物、およびこの組成物を用いてなる感光性基材ならびにパターン形成方法を提供する。【構成】 特定構造を有するポリイミド前駆体などの樹脂成分に、400nm以上の可視領域下限付近の活性光線の照射によって塩基性を呈する化合物を含有させることによって、耐熱性の良好なフォトレジスト組成物を得ることができ、また、この組成物を基材上に塗設してなる感光性基材を用いてパターン形成すると良好なパターンが形成される。

請求項（抜粋）：

下記(化1)の構造を有する感光性物質。【化1】(但し、式中、R1 およびR2 は水素原子もしくは炭素数1〜3のアルキル基であり、R3 およびR4 はシアノ基もしくは-COR5 基(R5 は炭素数1〜5のアルキル基およびアルコキシル基、アニリノ基、トルイジノ基、ベンジルオキシ基から選ばれる一種である。)である。)

IPC (6件)：

G03F 7/004 531 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027