特許
J-GLOBAL ID：200903020678744740

放射線像変換パネルおよびその製造方法

発明者：
岸波 勝也

岸波 勝也 について

, 
柳多 貴文

柳多 貴文 について


出願人/特許権者：
コニカ株式会社

コニカ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-075924
公開番号（公開出願番号）：特開2002-277590
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：
【要約】【課題】 感度、鮮鋭性が共に優れた放射線像変換パネルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 支持体、下引き層、蛍光体層がこの順に積層されてなる放射線像変換パネルで、該下引き層の長さ5cm、幅1cm、乾燥膜厚100μmの単膜を10分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸び率が1.8倍(180%)以下であり、該下引き層を乾燥膜厚100μmになるよう25μm厚の透明PETに塗設し、長さ5cm、幅2mmに断裁して、シクロヘキサノン中に浸せきした時のカール度1/rのrが5(cm)≦r≦1000(cm)であることを特徴とする放射線像変換パネル及びその製造方法。
請求項（抜粋）：
支持体、下引き層、蛍光体層がこの順に積層されてなる放射線像変換パネルで、該下引き層の長さ5cm、幅1cm、乾燥膜厚100μmの単膜を10分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸び率が1.8倍(180%)以下であることを特徴とする放射線像変換パネル。
IPC (3件)：
G21K 4/00 ,  C09K 11/61 CPF ,  G01T 1/00
FI (4件)：
G21K 4/00 L ,  G21K 4/00 M ,  C09K 11/61 CPF ,  G01T 1/00 B
Fターム (40件)：
2G083AA03 ,  2G083BB01 ,  2G083CC02 ,  2G083CC04 ,  2G083CC06 ,  2G083CC08 ,  2G083DD01 ,  2G083DD02 ,  2G083DD06 ,  2G083DD11 ,  2G083DD12 ,  2G083EE02 ,  2G083EE03 ,  4H001CA08 ,  4H001XA04 ,  4H001XA09 ,  4H001XA12 ,  4H001XA20 ,  4H001XA35 ,  4H001XA38 ,  4H001XA53 ,  4H001XA56 ,  4H001YA03 ,  4H001YA08 ,  4H001YA11 ,  4H001YA19 ,  4H001YA37 ,  4H001YA55 ,  4H001YA58 ,  4H001YA59 ,  4H001YA60 ,  4H001YA62 ,  4H001YA63 ,  4H001YA64 ,  4H001YA65 ,  4H001YA66 ,  4H001YA67 ,  4H001YA68 ,  4H001YA69 ,  4H001YA70
引用特許：
審査官引用 (6件)
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