特許
J-GLOBAL ID:200903020684746320

含ケイ素置換基を導入した一重項酸素発生剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 川口 嘉之 ,  松倉 秀実 ,  遠山 勉 ,  佐貫 伸一
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2006316320
公開番号(公開出願番号):WO2007-023766
出願日: 2006年08月21日
公開日(公表日): 2007年03月01日
要約:
下記一般式(I)〜(III)で表される化合物を一重項酸素発生剤の有効成分とする。一般式(I)において、R1〜R14の少なくとも1つは下記(i)〜(iv)より選ばれる置換基であり、一般式(II)において、R1〜R16の少なくとも1つは下記(i)〜(iv)より選ばれる置換基であり、一般式(III)において、R1〜R12の少なくとも1つは下記(i)〜(iv)より選ばれる置換基である。一般式(i)〜(iv)において、Ra、Rb、Rcは独立して水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t-ブチル、フェニル、メトキシ、エトキシ、トリメチルシリルより選ばれる置換基である。
請求項(抜粋):
下記式一般式(I)〜(III)で表される化合物群から選ばれる1種類以上の化合物を含む、一重項酸素発生剤:
IPC (4件):
C07F 7/08 ,  C07F 7/18 ,  A61K 31/695 ,  A61P 35/00
FI (5件):
C07F7/08 R ,  C07F7/18 R ,  C07F7/08 W ,  A61K31/695 ,  A61P35/00
Fターム (16件):
4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086AA03 ,  4C086DA44 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086NA14 ,  4C086ZB26 ,  4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ66 ,  4H049VQ76 ,  4H049VR23 ,  4H049VR24 ,  4H049VR41 ,  4H049VU06
引用特許:
出願人引用 (2件)

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