特許
J-GLOBAL ID:200903020701817938

パターン抽出方法および装置、そのプログラムを記録した媒体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 木内 光春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-267169
公開番号(公開出願番号):特開平11-110542
出願日: 1997年09月30日
公開日(公表日): 1999年04月23日
要約:
【要約】【課題】 2つのパターン間の照合を行う問題において、パターンの平行移動、回転、歪みに対しても不変な照合を可能にし、さらに部分的に一致する領域の抽出も可能にすること。【解決手段】 第1のパターンXと第2のパターンY上の特徴点i,j間の類似度に基づいて、X上の各特徴点iに対してY上の特徴点から複数の対応候補点kを選ぶ。つぎに、類似度とX上での近傍特徴点u間距離と各対応候補点k,k’間のY上での距離に基づいて、対応候補点の対応度を繰り返し計算により求め、対応度の高い対応候補点を抽出する。対応候補点k,k’の位置が一致する場合には対応候補点k’の対応度を減算する。各対応度を繰り返し計算する場合に、各特徴点iの対応度の変化量の総和を計算し、変化量が閾値以下になった時に収束を判定する。
請求項(抜粋):
第1のパターンXが第2のパターン中に存在するか否かを判別し、存在する場合に第2のパターン中から前記第1のパターンに対応する領域を抽出するパターン抽出方法において、前記第1のパターンXと第2のパターンY上にそれぞれ特徴点を配置し、前記第2のパターンYに配置した特徴点の中から、第1のパターンX上の特徴点が対応する可能性のある複数の対応候補点kを求め、第1のパターンX上の任意の特徴点iとそれを中心とする近傍特徴点uの間の距離と、特徴点iの対応候補点kと前記近傍特徴点uの対応候補点k’の間の距離を用いて、各対応候補点の対応度を求めることを特徴とするパターン抽出方法。

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