特許
J-GLOBAL ID：200903020709842079
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-271223
公開番号（公開出願番号）：特開平10-116805
出願日： 1996年10月15日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：
【要約】【課題】 スピンベース側空間へ供給する気体の使用量を低減し、基板のスピンベース側の面の汚染を軽減する。【解決手段】 所定の軸J回りに回転され、基板Wと対向する対向面を有するスピンベース1と、スピンベース1に設けられ、スピンベース1の対向面から離して基板Wを保持する基板保持部材3と、保持された基板Wのスピンベース1側の面とスピンベース1の対向面との間のスピンベース側空間9に気体を供給する気体供給手段とを備えた基板処理装置において、保持された基板Wの外周端部とスピンベース1との間の隙間4の間隔d1を、保持された基板Wのスピンベース1側の面の中央部付近とその部分に対向するスピンベース1の対向面との間隔d2よりも狭くした。
請求項（抜粋）：
所定の軸回りに回転され、基板と対向する対向面を有するスピンベースと、前記スピンベースに設けられ、前記スピンベースの対向面から離して基板を保持する基板保持部材と、前記基板保持部材に保持された基板のスピンベース側の面と前記スピンベースの対向面との間の空間に、前記スピンベースの対向面の回転中心部付近から気体を供給する気体供給手段と、を備え、前記基板保持部材に保持された基板の外周端部と前記スピンベースとの間の隙間の間隔を、前記基板保持部材に保持された基板の前記スピンベース側の面の中央部付近とその部分に対向する前記スピンベースの対向面との間隔よりも狭くするように構成したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/304 351
H01L 21/304 341 C
, H01L 21/304 341 N
, H01L 21/304 351 S
