特許
J-GLOBAL ID：200903020723398963
電子ビーム偏向方法及び電子ビーム描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-178130
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045460
出願日： 1994年07月29日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：
【要約】【目的】電子ビーム露光の偏向待ち時間を短縮し、電子ビーム描画装置のスループットを高める。【構成】主DAC3の出力に主DAC3と比べて出力は小さいがセトリング時間の早い副DAC5をフローティングして重畳させる。副DAC5へのデータは光電変換部11で電気的に絶縁して入力される。副DAC5の出力を静電偏向器7に接続し、電子ビーム1を偏向制御する。【効果】簡易な構造で、高速高精度の電子ビーム描画を行うことができる。
請求項（抜粋）：
単一の静電偏向器を用いて電子ビームを照射フィールドの特定の位置を照射するように電子ビームを偏向する方法であって、上記照射フィールドを多段分割し、上記特定の位置を特定するデータとして上記特定の位置の属する上記多段分割された各段フィールドごとのデータを用意し、上記各段フィールドごとのデータを個々に電気信号のフィールド偏向信号に変換し、上記各段フィールドごとのフィールド偏向信号を大地アースに対してフローティングした状態で上記フィールドの特定位置の偏向信号に重畳し上記静電偏向器に加え電子ビームを偏向することを特徴とする電子ビーム偏向方法。
IPC (2件)：
H01J 37/147
, H01L 21/027
