被覆の改良

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉武賢次 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-584992
公開番号（公開出願番号）：特表2002-531282
出願日： 1999年11月22日
公開日（公表日）： 2002年09月24日
要約：

【要約】基材、例えばプレートまたは触媒モノリスを、基材を高分子電解質で処理して被覆を形成し、そして水溶性スラリーから金属酸化物の被覆を堆積することによって、金属酸化物、特にゼオライトで被覆することができる。連続的被覆、ここで複数の層を包含することのできるもの、を容易に形成することができる。実施例においてポリアクリルアミドを高分子電解質として用いる。

請求項（抜粋）：

基材上に金属酸化物被覆を堆積する方法であって、前記基材の表面を高分子電解質で処理して、その上に高分子電解質の被覆表面を付与してなり、かつ、その後にまたはそれと同時に、この被覆した表面を、金属酸化物粒子を含んでなる水溶性スラリーで処理することを含んでなる、方法。

IPC (9件)：

B32B 9/00 , B01J 23/89 , B01J 29/08 , B01J 29/40 , B01J 29/70 , B01J 32/00 , B01J 37/02 301 , B01J 37/02 , B05D 7/14

FI (9件)：

B32B 9/00 A , B01J 23/89 M , B01J 29/08 M , B01J 29/40 M , B01J 29/70 M , B01J 32/00 , B01J 37/02 301 C , B01J 37/02 301 E , B05D 7/14 Z

Fターム (78件)：

4D075AE03 , 4D075DA06 , 4D075DA21 , 4D075DB04 , 4D075DB07 , 4D075DB14 , 4D075DC13 , 4D075DC16 , 4D075DC50 , 4D075EA02 , 4D075EA06 , 4D075EA07 , 4D075EA10 , 4D075EB05 , 4D075EB22 , 4D075EC02 , 4D075EC03 , 4D075EC05 , 4D075EC37 , 4F100AA17B , 4F100AA18B , 4F100AA20B , 4F100AA27B , 4F100AB01A , 4F100AB10A , 4F100AB24B , 4F100AC04B , 4F100AK01C , 4F100AK26C , 4F100AT00A , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100CC00B , 4F100CC00C , 4F100JL08B , 4F100JM02B , 4F100JM02C , 4G069AA01 , 4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069BA01A , 4G069BA01B , 4G069BA02A , 4G069BA02B , 4G069BA05A , 4G069BA06A , 4G069BA07A , 4G069BA13A , 4G069BA17 , 4G069BA18 , 4G069BA22C , 4G069BB02A , 4G069BB02B , 4G069BB04A , 4G069BB06A , 4G069BC43A , 4G069BC66B , 4G069BC69A , 4G069BC75A , 4G069BC75B , 4G069BE19C , 4G069EA11 , 4G069EA19 , 4G069FA03 , 4G069FA04 , 4G069FA06 , 4G069FB15 , 4G069FB17 , 4G069FC04 , 4G069ZA01A , 4G069ZA03A , 4G069ZA03B , 4G069ZA04A , 4G069ZA04B , 4G069ZA11A , 4G069ZA11B

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