特許
J-GLOBAL ID：200903020729395281
合焦位置検出方法及び該方法を使用する投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-134980
公開番号（公開出願番号）：特開平10-326734
出願日： 1997年05月26日
公開日（公表日）： 1998年12月08日
要約：
【要約】【課題】 露光光の照明条件が変更されても高精度に、且つ高速に投影光学系の合焦位置を検出する。【解決手段】 コンデンサレンズ14から射出される露光光ILの一部を光路補正部材38で偏向して得られる照明光で、レチクルR上のレチクルマーク31を照明すると共に、投影光学系PLを介して基準マーク32を照明する。レチクルマーク31からの反射光、及び投影光学系PLを介する基準マーク32からの反射光を像面計測系35Aで受光し、撮像素子47,50,51の撮像面付近にそれらのマーク像を形成する。撮像素子50,51の撮像面はレチクルマーク31との共役面の前後に配置され、撮像素子50,51からの撮像信号より得られる像のコントラストからレチクルマーク31、及び基準マーク32の各デフォーカス量を検出し、この検出結果より投影光学系PLの合焦位置を検出する。
請求項（抜粋）：
所定の露光光のもとでマスクに形成されたパターンの像を基板上に投影するための投影光学系の合焦位置を検出する合焦位置検出方法において、前記投影光学系の前記基板側に配置された所定の基準マークを照明し、前記基準マークからの反射光を前記投影光学系を介して前記マスクの共役面の前後2箇所で検出して、前記共役面の前後の2箇所で前記基準マークの像のコントラストをそれぞれ求め、該求められたコントラストに基づいて前記投影光学系の合焦位置を検出することを特徴とする合焦位置検出方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 526 Z
, G03F 7/207 H
