特許
J-GLOBAL ID：200903020732635161
電解エツチング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 進二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-276283
公開番号（公開出願番号）：特開平5-093300
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：
【要約】【目的】 実際的な工業的微細加工技術として使用できる電解エッチング方法を提供する。【構成】 対極としてのプローブ電極を先端開口を有するキャピラリー中に挿入し、この先端開口の周辺面と作動極としての加工対象固体表面との間に小さなギャップを置き、該先端開口を通して電解液を流動させつつ電解エッチングを行う。【効果】 キャピラリー内に電解反応生成物が蓄積・析出すること無く、安定に電解エッチングを続けることができる。
請求項（抜粋）：
加工対象としての固体表面を作動極とし、開口先端を有するキャピラリー中に少なくともその先端が挿入されたプローブ状電極を対極として使用し、前記キャピラリーの開口先端を通して電解液を流動させつつ行うことを特徴とする電解エッチング方法。
IPC (2件)：
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