特許

J-GLOBAL ID：200903020737697092

処理装置および処理方法

発明者： 上野 欽也 ,  新藤 尚樹 ,  上川 裕二
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-071382
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246231
出願日： 1996年03月01日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 処理槽18内にIPA液の如き処理液の蒸気を導入しながら被処理体Wを処理する際に、その処理時間を短縮化する。【解決手段】 処理液の蒸気を処理槽18内に導入して処理槽18内に収納した被処理体Wを処理するに際し、処理槽18内を排気して減圧状態とし、被処理体Wの表面に付着した処理液の蒸気圧を相対的に高めて、乾燥を早める。

請求項（抜粋）：

処理液の蒸気を処理槽内に導入して処理槽内に収納した被処理体を処理する処理装置において、処理槽内を排気する排気手段を設けたことを特徴とする処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 361 ,  H01L 21/304 351

FI (2件)：

H01L 21/304 361 V ,  H01L 21/304 351 V

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板の洗浄・乾燥処理方法並びにその処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-140086   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板の表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-294766   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平4-354129
  
• 特開昭62-115725